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Nanoscope参加2021全国粉体测试技术应用研讨会

发布时间:2021-10-14      点击次数:194

Nanoscope Systems(纳兹克股份有限公司) 参加了2021924日至26日在天津滨海新区举行的“第十三届全国颗粒测试学术会议",本次开会议邀请了国内颗粒测试的专家总结交流颗粒测试方面的最新成果,探讨颗粒测试发展方向与未来趋势。

本次展品的范围包括各种类型的激光粒度分析仪、颗粒图像处理仪、颗粒计数器、粉体流动性测试仪等等

此次纳兹克参加的展品有NS3500系列激光共聚焦显微镜,K1-Fluo系列激光荧光共聚焦显微镜。

纳兹克股份有限公司的海外部长Dicke 在会议上针对激光共聚焦显微镜在微纳表征中的引用做了详细的报告。与一般采用激光散射与衍射技术测量颗粒物粒径的方法不同,激光共聚焦显微镜更强调对颗粒实际三维形貌的分析       

   他强调由于中美贸易战的影响芯片作为一个新兴的战略产业领域而备受关注。芯片制造是一个非常精密的过程,是民用工业领域的明珠,虽然在芯片制造方面有着中芯国际等一系列芯片制造公司,但是与5纳米制程芯片相比,特别是在半导体制造设备方面仍然有着较大的差距。晶圆是芯片的基底,晶圆质量的高低对芯片的最终性能有着直接的影响。所以对于晶圆的检测是一个非常重要的环节,晶圆表面微观缺陷的检测涵盖了前端制程的每一个环节。晶圆表面的缺陷包含:晶圆表面的纳米级颗粒物,加工过程中的机械损伤以及本身材料的化学缺陷等。对于半导体晶圆表面纳米级颗粒物的检测是一个非常有挑战的事,利用激光共聚焦显微镜可以对晶圆的表面进行快速无损检测。探测器只收集焦点处的反射信号,反射信号中包含了大量的信息包括:横向、纵向、轴向信息、粗糙度波动以及光强等等。通过对反射信号的处理以及图像的重新构建就可以获得样品表面的真实三维图像信息。目前NS3500已经实现了对晶圆表面颗粒物以及划痕快速检测技术的突破,可以对晶圆表面进行大范围拼接获得晶圆整体的表面三维信息,并且对选出其中有缺陷的部分进行独立分析。

     

另外,为了更好的服务大中华区的客户,纳兹克股份有限公司与国内外多家高校和科研机构设立的联合实验室,并且还在上海设立了独立的办事处有专门的人员负责统筹大中华区的所有商务活动。欢迎后期有兴趣的老师联系并进行深入的学术交流。"

纳兹克科技股份有限公司相信通过这些联合实验室能够为中国的颗粒学术研究提供更多的帮助。



Nanoscope Systems lnc
地址:中华人民共和国上海市虹口区宝山路778号
邮箱:info@nanoscope.net.cn
传真:86-21-60852363
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